水質汚濁防止法の特定施設について

No.36212 2010-12-15 23:55:36 ZWldb2b 勉強中

はじめて質問させていただきます。幾分素人ですので、よろしくお願い致します。

半導体事業において使用されているＰＦＣ（Ｃ３Ｆ８、Ｃ２Ｆ６等）ガスの除害装置を設置しようと考えております。

この装置は、熱分解器によりＰＦＣガスをＦ２及びＣＯ２にした後、水を用いたスクラバーで洗浄するというものです。

この場合、この装置は水質汚濁防止法上の廃ガス洗浄施設に当たるのでしょうか？

よろしくお願い致します。

No.36217 【A-1】

すみません。教えてください。

2010-12-16 19:58:45 火鼠（ZWl8329

No.36221 【A-2】

すみませんが、私にも教えて下さい。

2010-12-17 12:46:10 アスベスト分析屋 （ZWla85f

　すみません。

　F2はフッ素分子であろうと推察されますが、フッ素って熱分解で単離できますか？
　フッ素は反応性が高いのでフッ化物の状態になってしまう様に思われますが、スクラバーに水だけで大丈夫なのですか？

No.36231 【A-3】

Re:水質汚濁防止法の特定施設について

2010-12-18 01:54:00 たそがれ （ZWla61d

フッ素ガスは水と反応するとHFになるようですね。
確かに吸収効率やスクラバー廃水の問題はあるでしょうが、その辺はクリアされているのでしょう。

本題は水濁法の特定施設にあたるかということですが、いろいろ見ていくと、
「63.金属製品製造業又は機械器具製造業（武器製造業を含む。）の用に供する施設であつて、次に掲げるもの
ホ　廃ガス洗浄施設」

これ以外に該当しそうなものはないようです。
熱分解というワンクッションが入っているところが大きなポイントなのでしょうが、このサイトでまともな回答ができるのは同様な施設に関与した人だけなのではないでしょうか。
また、自治体によって判断に差異がありそうな気もします。

No.36268 【A-4】

Re:水質汚濁防止法の特定施設について

2010-12-22 17:25:32 ronpapa （ZWlba5

失礼します。お節介屋ですから返信お礼の必要はありません。（気が向いたらどうぞ…）
- 単純素朴に、Web検索を[ PFCガス除害装置 ]と入力検索した結果からのURL抜粋です。
- スクラバー等での水処理を要しない設備方式なども開発されているように見受けられますが・・・。
- しかし当サイト禁止事項として、機器装置メーカー等の特定企業宣伝行為に繋がることは慎まなくてはなりませんので、是非ご自分で各社情報を確認されることをお勧めします。
〔参考〕
　・　平成20年度地域地球温暖化防止支援事業の採択結果について（平成20年7月、経済産業省）
　　　http://www.meti.go.jp/committee/materials2/downloadfiles/g80716b03j.pdf
　・　半導体におけるＰＦＣ等排出抑制施策（平成２１年２月１９日、JEITA 半導体環境委員会）
　　　http://www.kantei.go.jp/jp/singi/tikyuu/kaisai/dai05tyuuki/sankou1/6.pdf
　・　半導体製造工場における温室効果ガス削減対策（某社テクニカルレポート）
　　　http://www.oki.com/jp/Home/JIS/Books/KENKAI/n188/pdf/188_R07.pdf
　・　同種産業関連では情報量も多いようです。処理方式や機種選定の決定前でしたら、関連情報を探る手掛かりになるかもしれません。

- ご質問の事柄（スクラバー洗浄装置は水質汚濁防止法の特定施設に該当するか否か？）については、機器製造メーカーに直接問い合せ確認される事が第一と思います。　（“スクラバー”や“ブース”等の外形呼称だけでは、装置内の処理方式を説明理解できるものでは無いからです）

- 当社は半導体産業ではありません。印刷・塗装・乾燥工程に伴う燃焼処理装置や水噴ブース処理装置*1.などの附帯設備や、洗浄工程とその廃水処理施設*2.等の設置経験から、先ずはメーカー確認の後に、行政担当部局への計画案を持参しての事前相談に出向く手続き手順を順守励行しています。その際には設備メーカー担当者あるいは施設等建築施工業者を同行させることも多くあります。
*1.は、水濁法「特定施設」対象外となっています。
*2.は、水濁法「特定施設」として管理運用しています。

No.36314 【A-5】

設問しただけのようなので？お聞きいたします。

2011-01-06 18:08:49 火鼠（ZWl8329

>はじめて質問させていただきます。幾分素人ですので、よろしくお願い致します。
>
>半導体事業において使用されているＰＦＣ（Ｃ３Ｆ８、Ｃ２Ｆ６等）ガスの除害装置を設置しようと考えております。
>
>この装置は、熱分解器によりＰＦＣガスをＦ２及びＣＯ２にした後、水を用いたスクラバーで洗浄するというものです。
>
>
>この場合、この装置は水質汚濁防止法上の廃ガス洗浄施設に当たるのでしょうか？
>
>よろしくお願い致します。
------------------------------------------------------」

大気汚染防止法がありませんが？何故でしょう？

ガスを処理するのに、何故ないの？

仮に、特殊ガスで法的に対応がないから無視するとかでしょうか？

素人と言われてますが、素人が、そんなガス（訳分からん毒性強いガス）の対応をうんぬんして、適当なその辺にいる塩ビ加工のおじさんにスクラバー作らせてもいいの？

仮に、ガスが完全分解して、ＣＯ２とＨＦになったとしても、ＨＦのスクラバーによる吸着はかなり知識が必要です。無理な場合もあると思います。
それらを、全部吹っ飛ばして排水の対応？？おかしくありませんか？

追申

法律的な、対応だけですか？
法律内にないけど、危ないからの内部告発？？
それとも、法律にないから、ＯＫって言う危ない。確認？？

あなたの主旨が、見えないね？

No.36339 【A-6】

質問者から返信が無いので、どうでも良いですが…

2011-01-14 16:55:47 たる吉 （ZWl47e

半導体製造業でのフッ化水素関係設備も経験があります故。
A-3たそがれさまの回答のとおり、「63.ホ」に該当しました。
尚、半導体製造業のフッ化水素関係の排水基準はH16年当時暫定排水基準(15mg/l）も設定されていたことからも、このあたりの判断基準はどこの自治体でも間違いないと思います。

火鼠さま
>大気汚染防止法がありませんが？何故でしょう？
>ガスを処理するのに、何故ないの？
>仮に、特殊ガスで法的に対応がないから無視するとかでしょうか？
私も貴殿が何が言いたいのか（法的に大気汚染防止法で規制しないのは何故？と聞きたいのでしょうか）理解できませんが法的には、『二二弗酸の製造の用に供する凝縮施設、吸収施設及び蒸留施設（密閉式のものを除く。）』が規制対象であり、それ以外は従業員や地域住民を考えて排ガス処理するものと思っております。

>仮に、ガスが完全分解して、ＣＯ２とＨＦになったとしても、ＨＦのスクラバーによる吸着はかなり知識が必要です。無理な場合もあると思います。
半導体製造のフッ素系のスクラバーは普通にメーカもいますし、かなりの吸着率ですよ。
どのあたりの文書を見て「それらを全部吹っ飛ばしている」と思われたのでしょうか？

No.36351 【A-7】

Re:水質汚濁防止法の特定施設について

2011-01-16 18:48:37 火鼠（ZWl8329

認識が、甘いのかもしれません。
たしかに、半導体関連の処理設備は、アンモニアで処理したり、活性炭で処理したり外部への漏洩防止に気を使っていると思います。
では、？初心者と言われる方はその辺を理解していながら初心者なのでしょうか？弗化水素の単純ガスであっても、苛性ソーダとか、塩化カルシウムのスクラバーで、大気汚染の基準以下に抑えることなんて、そんなに簡単なものではないと思います。入口濃度と温度によって、基準以下の除去は厳しいとおもいます。
対応としている物質が大気汚染防止法に含まれないのではないでしょうか？分解は完全？？想定はいいけど。それでいいの？？
だから、水に溶けたフッ素の処理？？排ガスは外部に出るんですよね？
へたすると。まわりの木々の葉っぱ全部落ちると思いますが？？
法律外であろうと、有害物を生成して、いい加減な方法で外部に放散されたら怖いから、要らんコメントいれてみました。

No.36445 【A-8】

設問者は、返答をしていただきたい。又は、言いっぱなしで返答する気が無いのなら閉じたらいかが

2011-02-02 19:45:34 火鼠（ZWl8329

なんも、返答する気がないのなら？閉じたらいかがですか？

環境Q&A