一般財団法人環境イノベーション情報機構
『Q&Aでわかる洗浄技術の基礎と洗浄剤・洗浄装置の使い方、市場動向』
【募集期間】| 2010.03.01〜2010.04.26
★半導体メモリの銅配線化での銅の洗浄の課題は?対応は?
★化学物質規制への対応は? 洗浄技術の新規材料は?
★お客様からの事前リクエストを募集!!講義に反映いたします!!
【講 師】
第1部 (株)日立製作所マイクロデバイス事業部 製造本部生産技術部 統括主任技師 津金 賢 氏
第2部 ライオン(株) 研究開発本部 化学品研究所 副主任研究員 藤田 雄太 氏
第3部 大日本スクリーン製造(株) 半導体機器カンパニー 企画部 担当課長 荒木 浩之 氏
【対 象】
洗浄技術に関心のある方、研究者マーケッター、新規事業企画部門の方など
【会 場】
産業振興会館 第1研修室 【神奈川・川崎】
JR品川駅より電車で10分ほど、JR新横浜駅より電車で20分ほど
【日 時】
平成 22年4月27日(火) 10:30〜15:45
【定 員】30名
【聴講料】
1名につき43,050円(税込、テキスト費用・お茶代含む)
※初めてお申込みいただいたお客様は1名につき39,550円(税込、テキスト費用・お茶代含む) ⇒要(無料会員登録)
※昼食は一人につき別途1,050円徴収
※同一法人より2名でのお申し込みの場合、69,300円。
第1部 シリコンウェーハにおける洗浄の基礎と技術Q&A(仮題)
【10:30-12:00】
(株)日立製作所 津金 賢 氏
【プログラム】
1.半導体製造プロセスにおけるクリーン化Q&A
Q1.クリーン化って何?
Q2.要求されるクリーン度(ITRSの考え方)ってどれくらい?
Q3.デバイスに与える汚染の影響 とは?汚染の種類・体系は?
2.ウェットプロセスQ&A
Q4.ウェットプロセスに用いられる洗浄液とは?
Q5.洗浄液ってどんなのがあるの?選択の目安は?オススメは?
Q6.パーティクル汚染って何? 見つけ方は?
Q7.金属汚染とは? 企業の対策は?
Q8.有機物汚染とは? 企業の対策は?
Q9.汚染の分析?
3.新規プロセス対応洗浄技術Q&A
Q10.Cu配線工程の洗浄技術は?
Q11.洗浄技術の新規材料は?
4. お客様から寄せられた事前リクエストへの解答
Q12 リクエスト
5.総合Q&A
【質疑応答 名刺交換】
第2部 Q&Aで解説する洗浄剤の種類と特性、使い方のコツ(仮題)
【13:00-14:00】
ライオン(株) 藤田 雄太 氏
【プログラム】
近日中に公開予定
第3部 半導体洗浄プロセスと装置の最新情報と開発動向(Q&A形式)
【14:15-15:45】
大日本スクリーン製造(株) 荒木 浩之 氏
【キーワード】
1.パーティクル
2.メタル
3.除去
【講演主旨】
半導体デバイスの微細化に伴い、基板洗浄も変化していきています。本セミナーでは市場の変化、装置の変化、プロセスの変化を中心に説明致します。また、今後、基板洗浄はどのようになるのか、予測も交えてQ&A、ディスカッションを行いたいと思います。
【プログラム】
1.半導体洗浄装置Q&A
Q1.洗浄装置の種類は?洗浄装置の仕組みは?
Q2.主流となっている洗浄装置は?
Q3.洗浄装置でどんなことができるの?
Q4.洗浄装置で市場でどんなことが求められているの?
・半導体メモリの銅配線化での銅の洗浄の課題は?対応は?
2.洗浄装置の使い方・工程Q&A
Q5.洗浄装置のスペースは?管理基準は?
Q6.洗浄の工程は?
Q7.洗浄効率を上げるには?
Q8.消耗品は?
Q9.純水・薬液・排気の使用量は?
Q10.化学物質規制への対応は?
・IPA除去装置とは?その能力とは?更なる課題は?
Q11.搬送は?
Q12 各工程でユーザーが起こすトラブルは?その対策は?
3.お客様から寄せられた事前リクエストへの解答
Q13. リクエスト
4.総合Q&A
Q14.今後の技術は? 動向は?
【質疑応答・名刺交換】
お問い合わせはinfo▲andtech.co.jp（▲を@に変換ください）にご連絡ください
【登録日】2010.03.01