平成20年度　揮発性有機化合物（VOC）対策功労者発表

【大気環境 大気汚染】 【掲載日】2008.11.19 【情報源】環境省／2008.11.18 発表

　環境省は、平成20年度の揮発性有機化合物（VOC）対策功労者が決定し、平成20年12月1日に表彰を行うと発表した。
　同省では、浮遊粒子状物質や光化学オキシダントに係る大気汚染の改善のため、固定発生源からの揮発性有機化合物（VOC）排出量を平成12年度から平成22年度までに3割程度削減することを目標に、法規制と自主的取組の双方の政策手法を適切に組み合わせた対策を進めており、自主的取組を始めとするVOC排出抑制対策を率先して行っている事業者又は個人・団体の活動に対して昨年度からVOC対策功労者表彰検討会による表彰を行っている。
　今年度の受賞者は、「VOC対策功労者特別表彰」として、（1）新日本石油基地株式会社 喜入基地（鹿児島市）、（2）財団法人 鉄道総合技術研究所（東京都国分寺市）−−の2団体。そして「VOC対策功労者表彰」として、（1）アマテイ株式会社 本社工場（兵庫県尼崎市）、（2）パナソニック株式会社 AVCネットワークス社 ネットワーク事業グループ DSCビジネスユニット 福島工場（福島市）、（3）山金工業株式会社 森田工場（福井市）、（4）HOYA株式会社 八王子工場（東京都八王子市）、（5）電気化学工業株式会社 千葉工場（千葉県市原市）−−の5団体。
　表彰式は、東京都港区の虎ノ門パストラルの新館で執り行われる。【環境省】